SK海力士在日本测试最新低温蚀刻设备，可以实现400层以上新型3D NAND。这意味着更高生产效率和更低的生产环境影响。据报道，东京电子的低温蚀刻设备可以在-70°C的冷却温度下运行，这是以往的两倍。这对生产400层以上的3D NAND产品至关重要。虽然有些人认为蚀刻垂直孔很简单，但在东京电子的新低温蚀刻设备的帮助下，这种挑战将变得更容易。东京电子的新低温蚀刻设备将为更环保的制造实践提供推动。韩国三星电子也在测试类似设备，同时也有预测表明这些设备有望带来更高的生产效率和更低的环境影响。



随着科技的进步，我们看到了越来越多的企业开始投入资金进行研发，尤其是对于存储技术的研究。其中，NAND（非易失性随机存取存储器）是最重要的存储介质之一。由于其对生产效率和环境保护的影响，近年来，人们一直在寻找更加高效的蚀刻方法。最近，SK海力士公司发布了一款全新的低温蚀刻设备，能够在-70°C的环境下运行，这使得该设备在400层以上的3D NAND产品的生产上具有重要意义。

东京电子公司的低温蚀刻设备，在-70°C的环境中仍能正常运行，比以往任何时候都要快。这意味着，即使是在恶劣的环境下，也无法影响到生产过程。这对于需要高生产效率和低环境污染的3D NAND产品来说，是一个巨大的优势。

报道中还指出，尽管有些人认为蚀刻垂直孔很容易，但在东京电子的新低温蚀刻设备的帮助下，这种挑战将变得更加容易。这个设备通过精确控制电流和电压，使得刻蚀精度达到了前所未有的水平，这无疑极大地提高了生产效率。
目前，韩国三星电子也正在测试类似的设备，并预计这些设备也将带来更高的生产效率和更低的环境影响。然而，三星电子表示，他们仍然面临着一些挑战，比如设备的稳定性、成本等问题。
总的来说，这次新的低温蚀刻设备的研发对于提高生产效率和减少环境污染都有着重大的意义。它不仅可以应用于现有的NAND产品，还可以用于其他类型的存储设备。相信随着更多企业加入研发队伍，NAND的未来将会更加光明。