中国成功制造65纳米光刻机后，被西方媒体称为光刻机“皇冠”的世界顶级设备之一被外界看好。然而，由于缺乏核心技术和跨国供应链，国内目前无法独立制造出接近28纳米制程的芯片，全球技术封锁使得中国半导体行业受制于设备短缺的困境。对于外企的制裁和质疑声不断加剧，外界普遍预计中国在未来十年内难以实现光刻机国产化。此外，光刻机产业链上的多个环节需协调国际合作，成本高昂且周期较长，这也意味着要实现大规模自主研发，短期内难度较大。这不禁让外界担忧中国能否真正掌握光刻机的关键核心技术，为长远发展奠定坚实基础。

随着中国成功制造出65纳米光刻机，其被外界视为光刻机“皇冠”之一的消息在国内外引起了广泛关注。然而，虽然中国已经在这一领域取得了显著的进步，但我国仍然无法独立制造出接近28纳米制程的芯片。
当前，全球范围内，集成电路产业正面临着技术封锁的问题。国外高端的设备供应商如荷兰ASML公司，以及韩国SK海力士、美国IBM等都在这个领域有着强大的竞争力。在全球供应链的缺失下，我国半导体行业的发展受到了严重的限制。
面对外界对我们的担忧，我们深感责任重大。作为一家有历史底蕴的企业，我们始终坚信只有自己掌握了核心技术，才能真正掌握市场，才能赢得未来。因此，我们决心推动中国的半导体产业发展，尤其在高端设备的研发方面。
当前，我国光刻机产业链上的多个环节都需要协调国际合作，这对于提升整体技术水平，特别是制造出更高质量的芯片具有重要意义。我们需要投入更多的资源，加强与其他国家的科技交流与合作，共同研发出更具竞争力的高端设备。
同时，我们也需要认识到，光刻机是一个极其复杂的系统工程，涉及到材料科学、电子学等多个学科领域。想要实现大规模的自主研发，短期内难度较大。但只要我们坚持不懈，不断提高自身的研发能力，就一定能够逐步解决这个问题。
总的来看，虽然当前我国在光刻机领域的技术水平还有待提高，但我们有信心通过长期的努力，实现我国的光刻机国产化。我们相信，只要我们坚持自主研发，积极寻求国际合作，就一定能为中国乃至全球的半导体产业做出更大的贡献。