芯东西3月8日重磅报道，全球芯片制造巨头英特尔近日喜讯连连，其芯片制造业务正春风得意，而这一切的焦点源于一台价值高达4亿美元的世界首台High-NA EUV光刻机已正式入驻其工厂。这一消息犹如一枚深水炸弹，震撼业界。
    本周，英特尔史无前例地分享了一段拆箱史上最大光刻机的视频，满载欣喜之情向全球宣告这一重大突破。在视频中，这台庞然大物——TWINSCAN EXE:5200 High-NA EUV光刻机的运输、安装过程详实呈现，从荷兰至美国俄勒冈州波特兰的跨越重洋之旅，再到最终抵达英特尔工厂的盛况，无不展示着这场科技盛宴的非凡意义。
    早在今年1月，当这台超级光刻机的主要组件抵达时，英特尔就高调晒照并表达激动心情，视之为新年最佳开端。而这背后的原因不言而喻：High-NA EUV光刻机对于生产3纳米及更先进制程工艺芯片至关重要，它能有效简化先进制程芯片的制造流程，提升产量、降低成本，并且目前全球仅有荷兰光刻机巨头ASML能够制造，且产能极其有限。因此，包括英特尔、台积电、三星、SK海力士等全球顶级半导体制造商纷纷争先恐后地争夺ASML最先进的光刻技术设备。
    其中，英特尔尤为引人注目，该公司正全力推进代工业务，剑指2025年通过Intel 18A（约等于1.8纳米）制程节点夺回制程领先地位，进而超越三星成为全球第二大芯片代工商。率先获得最先进的光刻技术将大大助力英特尔吸引更多的客户资源。
    事实上，英特尔对High-NA EUV光刻机的期待由来已久，早在2018年就下单预订了ASML试验型号的TWINSCAN EXE:5000光刻机，如今终于迎来了TWINSCAN EXE:5200这一里程碑式的到来。这台机器体型巨大，高度相当于三层楼，运输过程需动用13个集装箱容量的卡车和250个板条箱，总重量约为33万磅。
    视频记录了这台巨无霸从荷兰空运至美国，再由卡车接力送达英特尔工厂的过程。早已守候多时的工程师团队立即投入紧张有序的安装工作，整个安装工程预计需要250名来自ASML和英特尔的工程师花费大约6个月的时间；安装完成后，还需经过数周乃至数月的校准调试才能投入使用。
    High-NA EUV光刻机的分辨率高达8nm，相较于当前单次曝光分辨率为13nm的EUV光刻机，实现了显著的技术飞跃。按照计划，英特尔将首先通过Intel 18A工艺验证这款光刻机的性能，预计到2025年部署商业化Twinscan EXE:5200设备用于大规模生产Intel 14A（相当于1.4nm）工艺技术。
    据ASML透露，下一代High-NA EUV光刻机的价格将超过现有Low-NA EUV光刻机价格的两倍以上，即约3.8亿美元，而英特尔CEO帕特·基辛格近期披露的实际成本接近“4亿左右”。相比之下，目前市场上的Low-NA Twinscan NXE EUV系统的售价约为1.8亿美元。
    ASML还宣布，计划在2027年至2028年间每年生产20台High-NA EUV光刻设备，并在今年早些时候表示，该款High-NA EUV光刻机的订单数量已经达到了两位数。随着这些尖端设备逐步进入各大半导体厂商，全球芯片制造行业的新一轮竞赛已然鸣枪起跑。