俄罗斯研究人员认为直接跳过浸没式DUV光刻机可一臂之力攻克EUV光刻机，凸显事件起因及关注爆点。 EUV光刻机是关键，且仅在俄罗斯享有优势，但在国内尚处于基础研发和样件试制阶段。近期争议中，俄罗斯官方一意坚持自己已具备造更高端EUV光刻机的能力。 中方对此提出质疑，并指出俄罗斯市场已被严重限制，阻止正常国际交流活动。此言引发国内外读者热烈讨论，指出国产EUV面临挑战。

随着科技的发展，光学领域的进步愈发重要。而其中，最引人注目的便是光刻技术，这种技术的精度极高，可以将图案精确地印在晶体上，被广泛应用于半导体器件制造、纳米技术等领域。然而，要实现这样的高精度，必须依赖先进的设备，尤其是超精密光学系统，这些系统往往是由一种名为EUV（极紫外线）的光源驱动的。
最近，一项消息引起了全球的关注：俄罗斯研究人员认为可以直接跳过浸没式DUV光刻机，而可以利用直接照射的EUV光刻机来攻克高端EUV光刻机。这一论点的提出，无疑是对当前EUV市场竞争格局的一种有力回应。
就其原因来看，这是由于近年来俄罗斯在相关领域取得了一定的成果，包括成功开发出一款能在特定温度下工作的直接照射型EUV装置。而且，俄罗斯也一直积极参与到EUV的研发过程中，投入了大量的人力物力资源。
但是，在中国的角度来看，这一观点却引发了广泛的质疑和争议。一方面，俄罗斯市场对外国产品有着强烈的依赖性，一旦失去了相关的技术支持，可能会导致本国在该领域的竞争力下降。另一方面，对于中国来说，虽然没有像俄罗斯那样的垄断地位，但作为全球最大的电子市场之一，中国市场的重要性不言而喻。因此，一旦失去了高端EUV光刻机的技术支持，可能会对中国经济产生重大影响。
尽管如此，这一论点仍然得到了不少人的支持。他们认为，即使俄罗斯能够直接使用EUV光刻机，也无法取代已经在国际市场上占据主导地位的德国、美国等国家的高端设备。因此，他们认为，这个问题的答案还取决于实际的应用情况。
总的来说，俄罗斯提出的直接跳过浸没式DUV光刻机的论点，无疑是一种新的探索方向。然而，无论结果如何，我们都需要认识到，无论是直接使用EUV光刻机，还是发展其他类型的光刻技术，都需要不断努力，才能在全球的竞争中取得更大的突破。同时，我们也需要重视与各国的合作，共同推动光刻技术的进步，让这个世界因为我们的共同努力变得更加美好。